Mwatye Pati pou SiC Epitaxial Ekipman

Deskripsyon kout:

SiC kouvwi pati grafit pou ekipman epitaxial SiC.

Pwodwi entwodiksyon ak itilizasyon: Konekte tib kwatz, ka pase gaz pou kondwi wotasyon baz plato a, kontwòl tanperati

Kote aparèy nan pwodwi a: nan chanm reyaksyon an, pa an kontak dirèk ak wafer la

Pwensipal pwodwi en: aparèy pouvwa

Mache tèminal prensipal: nouvo machin enèji


Pwodwi detay

Tags pwodwi

SiC kouvwiPati Graphite Halfmoonse yon eleman kle yo itilize nan pwosesis fabrikasyon semi-conducteurs, espesyalman pou ekipman epitaxial SiC. Nou itilize teknoloji patante nou an pou fè pati mwatye lalin nan ak pite trè wo, bon inifòmite kouch ak yon lavi sèvis ekselan, osi byen ke segondè rezistans chimik ak pwopriyete estabilite tèmik.

 
Semicera Workplace
Kote travay semisera 2
Ekipman machin
CNN pwosesis, netwayaj chimik, kouch CVD
Sèvis nou an

  • Previous:
  • Pwochen: