Silisyòm Carbide kouvwi disk pou MOCVD

Deskripsyon kout:

Silisyòm Carbide Disk kouvwi Semicera a pou MOCVD fèt pou bay pèfòmans eksepsyonèl nan pwosesis depo metal-òganik chimik vapè (MOCVD). Avèk yon kouch carbure Silisyòm dirab, disk sa a ofri ekselan estabilite tèmik, rezistans chimik siperyè, ak distribisyon chalè inifòm, asire kondisyon pi bon pou pwodiksyon semi-conducteurs ak dirije. Lidè endistri yo fè konfyans yo, disk carbure silikon Semicera a amelyore efikasite ak fyab nan pwosesis MOCVD ou yo, bay rezilta ki konsistan ak kalite siperyè.


Pwodwi detay

Tags pwodwi

Deskripsyon

LaSilisyòm Carbide Diskpou MOCVD soti nan semicera, yon solisyon wo-pèfòmans ki fèt pou efikasite optimal nan pwosesis kwasans epitaxial. Semicera Silisyòm Carbide Disc la ofri estabilite tèmik eksepsyonèl ak presizyon, fè li yon eleman esansyèl nan pwosesis Si Epitaxy ak SiC Epitaxy. Enjenieri pou kenbe tèt ak tanperati ki wo ak kondisyon egzijan nan aplikasyon MOCVD, disk sa a asire pèfòmans serye ak lonjevite.

Disk Silisyòm Carbide nou an konpatib ak yon pakèt konfigirasyon MOCVD, ki gen ladanMOCVD Susceptorsistèm, ak sipòte pwosesis avanse tankou GaN sou SiC Epitaxy. Li entegre tou san pwoblèm ak PSS Etching Carrier, ICP Etching Carrier, ak sistèm RTP Carrier, amelyore presizyon ak bon jan kalite pwodiksyon fabrikasyon ou. Kit yo itilize pou pwodiksyon Silisyòm monokristalin oswa aplikasyon pou Epitaxial Susceptor ki ap dirije, disk sa a asire rezilta eksepsyonèl.

Anplis de sa, Silisyòm Carbide Disc Semicera a adaptab nan divès konfigirasyon, ki gen ladan konfigirasyon Pancake Susceptor ak Barrel Susceptor, ki ofri fleksibilite nan divès anviwònman fabrikasyon. Enklizyon an nan Pati fotovoltaik plis pwolonje aplikasyon li nan endistri enèji solè, fè li yon eleman versatile ak endispansab pou modèn.epitaksyalkwasans ak manifakti semi-conducteurs.

 

Karakteristik prensipal yo

1 .Segondè pite SiC kouvwi grafit

2. Siperyè rezistans chalè & inifòmite tèmik

3. byenSiC kristal kouvwipou yon sifas ki lis

4. Segondè durability kont netwayaj chimik

 

Espesifikasyon prensipal nan kouch CVD-SIC:

SiC-CVD
Dansite (g/cc) 3.21
Fòs flexural (Mpa) 470
Ekspansyon tèmik (10-6/K) 4
Konduktivite tèmik (W/mK) 300

Anbalaj ak anbake

Kapasite Pwovizyon pou:
10000 moso/moso pa mwa
Anbalaj ak livrezon:
Anbalaj: Estanda & fò anbalaj
Poly sak + Bwat + Carton + Palette
Pò:
Ningbo/Shenzhen/Shanghai
Tan plon:

Kantite (moso)

1-1000

> 1000

Est. Tan (jou) 30 Pou negosye
Semicera Workplace
Semizè travay 2
Ekipman machin
CNN pwosesis, netwayaj chimik, kouch CVD
Semicera Ware House
Sèvis nou an

  • Previous:
  • Pwochen: